| 機器名 | 集束イオンビーム加工観察システム |
|---|---|
| 分類 | 顕微鏡 |
| 型式 | 集束イオンビーム装置：Quanta 3D 200i イオンミリング装置：IB-19500CP |
| メーカー | 集束イオンビーム装置（FIB/SEM）：FEI イオンミリング装置（IM）：日本電子 |
|---|---|
| 製品名 | 集束イオンビーム装置：Quanta 3D 200i イオンミリング装置：IB-19500CP |
| 設置年月日 | 2016/01/24 |
| 仕様 |
◇集束イオンビーム装置 ○FIB（加工・蒸着・観察） ･イオン源： Ga液体金属 ･加速電圧： 2 ～ 30 kV ･ビーム電流： 1 pA ～ 65 nA ･分解能： 7 nm ･蒸着源： カーボン、プラチナ ･任意位置への自動加工機能 ･連続自動断面加工観察機能 ○SEM（観察） ･電子源： Wフィラメント ･加速電圧： 0.2 ～ 30 kV ･ビーム電流： 2.2 pA ～ 100 nA ･像分解能： 3 nA ･３つの観察モード（高真空、低真空、超低真空） ◇イオンミリング装置 ･イオン源： Arガス ･加速電圧： 2 ～ 8 kV ･加工速度： 500 µm/h（断面） ･加工面積： φ4.5 mm (平面） ･間欠加工機能 |
| 用途 |
◇集束イオンビーム装置 電子材料など多様な材料の断面観察、 ナノからマイクロスケールの微細パターニング、 デポジションによる微細配線や3次元構造の作製 ◇イオンミリング装置 柔らかい材料（銅、アルミ、金、はんだ、高分子等）、 硬い材料（セラミックスやガラス等）、 これらが混在している複合材料や異物を含む材料の 観察・分析面の鏡面仕上げ |
| ジャンル | 化学 , 金属 , 電気・電子 , 高分子 |
| その他 |
国補
地方創生先行型交付金
|
